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X-ray photoelectron spectroscopy studies of indium-tin-oxide treated via oxygen plasma immersion ion implantation

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发表刊物：EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL-APPLIED PHYSICS

编号：SY113695

卷号：62

期号：3

是否译文：否

发表时间：2013-01-01

上一条：: Enhancement of emission intensity of Y3Al5O12:Ce3+phosphor by surface modification of wet etching

下一条：: Surface treatment of indium-tin-oxide films via plasma immersion ion implantation