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Imaging the Dissociation Dynamics of Si-2(+) via Two-Photon Excitation at 193 nm

发布时间：2021-05-31点击次数：

发表刊物： Chinese Journal of Chemical Physics
论文编号： SY114932
卷号： 32
期号： 1
页面范围： 129-133
是否译文： 否
发表时间： 2019-01-01

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