Fabrication of High-Quality and Strain-Relaxed GeSn Microdisks by Integrating Selective Epitaxial Growth and Selective Wet Etching Methods
发布时间：2024-12-13
点击次数：
- 发表刊物：
- Nanoscale Research Letters
- 编号：
- SY139334
- 卷号：
- 15
- 期号：
- 1
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2020-01-01