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学术成果

Layout decomposition co-optimization for hybrid e-beam and multiple patterning lithography

发布时间：2021-06-03点击次数：

发表刊物： IEEE TRANSACTIONS ON COMPUTER-AIDED DESIGN OF INTEGRATED CIRCUITS AND SYSTEMS
编号： SY127990
卷号： 30
期号： 3
页面范围： 402-415
是否译文： 否
发表时间： 2011-01-01

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