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Layout Decomposition Co-Optimization for Hybrid E-Beam and Multiple Patterning Lithography

发布时间：2021-06-14点击次数：

发表刊物： IEEE TRANSACTIONS ON COMPUTER-AIDED DESIGN OF INTEGRATED CIRCUITS AND SYSTEMS
编号： SY128002
卷号： 37
期号： 3
页面范围： 531-544
是否译文： 否
发表时间： 2018-01-01

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