教授
  • 所在单位:微电子学院
  • 学历:研究生毕业
  • 性别:
  • 学位:博士学位
  • 职称:教授
  • 在职信息:在职
  • 学科:微电子学与固体电子学
论文成果
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Highly selective etch of silicon dioxide with tungsten hard mask deposited by PVD process
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  • 发表刊物:2018 18TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON JUNCTION TECHNOLOGY, IWJT 2018
  • 论文编号:SY126913
  • 卷号:2018-January
  • 页面范围:1-3
  • 是否译文:
  • 发表时间:2018-01-01
  • 发表时间:2018-01-01