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教授
  • 所在单位：集成电路与微纳电子创新学院
  • 学历：研究生毕业
  • 性别：男
  • 学位：博士学位
  • 职称：教授
  • 在职信息：在职
  • 学科：微电子学与固体电子学
论文成果
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Highly selective etch of silicon dioxide with tungsten hard mask deposited by PVD process
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  • 发表刊物：2018 18TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON JUNCTION TECHNOLOGY, IWJT 2018
  • 编号：SY126913
  • 卷号：2018-January
  • 页面范围：122-124
  • 是否译文：否
  • 发表时间：2018-01-01
  • 发表时间：2018-01-01
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