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所在单位：
微电子学院
学历：
研究生毕业
性别：
男
学位：
博士学位
职称：
教授
在职信息：
在职
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The effect of sputtered W-based carbide diffusion barriers on the thermal stability and void formation in copper thin films
点击次数：
发表刊物：
MICROELECTRONIC ENGINEERING
论文编号：
SY98219
卷号：
87
期号：
12
页面范围：
2535-2539
是否译文：
否
发表时间：
2010-01-01
发表时间：
2010-01-01
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