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微电子学院
学历：
研究生毕业
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男
学位：
博士学位
职称：
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在职
学科：
微电子学与固体电子学
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The effect of sputtered W-based carbide diffusion barriers on the thermal stability and void formation in copper thin films
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发表刊物：
Microelectronic Engineering
论文编号：
SY98219
卷号：
87
期号：
12
页面范围：
2535-2539
是否译文：
否
发表时间：
2010-01-01
发表时间：
2010-01-01
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