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学术成果

Layout Decomposition for Hybrid E-Beam and DSA Double Patterning Lithography

发布时间:2021-06-03点击次数:
  • 发表刊物: 2017 IEEE INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON CIRCUITS AND SYSTEMS (ISCAS)
  • 编号: SR3390
  • 页面范围: 2461-2464
  • 是否译文:
  • 发表时间: 2017-01-01