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EFFECT OF TIN CAPPING LAYER ON BARRIER INHOMOGENEITIES FOR TiSix/Si SCHOTTKY DIODE
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发表刊物：
2014 12TH IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON SOLID-STATE AND INTEGRATED CIRCUIT TECHNOLOGY (ICSICT)
编号：
SR2231
是否译文：
否
发表时间：
2014-01-01
发表时间：
2014-01-01
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Influence of Post-Annealing on Resistivity of VOx Thin Film
