语言选择
English
首页
科学研究
研究领域
论文成果
专利
著作成果
科研项目
教学研究
教学资源
授课信息
教学成果
获奖信息
论文与著作
招生信息
学生信息
我的相册
社会服务
学术组织
社会职务
其他
教师博客
教授
所在单位:
集成电路与微纳电子创新学院
学历:
研究生毕业
性别:
男
学位:
博士学位
职称:
教授
在职信息:
在职
学科:
微电子学与固体电子学
论文成果
当前位置:
中文主页
>>
科学研究
>>
论文成果
>> $Significant Thres...
Significant Threshold Voltage Shift Induced by Ge Penetration into PMOSFET Channel of 28-nm SRAM
点击次数:
发表刊物:
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
编号:
SY127267
卷号:
40
期号:
1
页面范围:
87-90
是否译文:
否
发表时间:
2019-01-01
发表时间:
2019-01-01
上一条:
Schottky barrier height lowering induced by CoSi2 nanostructure
下一条:
有效利用在线课程,实现原位翻转课堂的大学新教学