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所在单位：
微电子学院
学历：
研究生毕业
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男
学位：
博士学位
职称：
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在职
学科：
微电子学与固体电子学
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KrF Photoresist Profile Modulation by NH3 Plasma Treatment for 28 nm SRAM
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发表刊物：
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
论文编号：
SY128602
卷号：
31
期号：
2
页面范围：
266-269
是否译文：
否
发表时间：
2018-01-01
发表时间：
2018-01-01
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