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学科：微电子学与固体电子学

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Thermal Stability Improvement Induced by Laser Annealing for 50-angstrom Ni(Pt) Film Silicidation

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发表刊物：IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES
编号：YF7711
卷号：63
期号：2
页面范围：751-754
是否译文：否
发表时间：2016-01-01
发表时间：2016-01-01

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