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论文成果

Combining double patterning with self-assembled block copolymer lamellae to fabricate 10.5 nm full-pitch line/space patterns

发布时间:2021-11-22点击次数:
  • 发表刊物: Nanotechnology
  • 论文编号: SY117677
  • 卷号: 30
  • 期号: 45
  • 是否译文:
  • 发表时间: 2019-01-01