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教授
  • 所在单位：集成电路与微纳电子创新学院
  • 学历：研究生毕业
  • 性别：男
  • 学位：博士学位
  • 职称：教授
  • 在职信息：在职
  • 学科：微电子学与固体电子学
论文成果
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Ultrathin GeOxNy interlayer formed by in situ NH3 plasma pretreatment for passivation of germanium metal-oxide-semiconductor devices
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  • 发表刊物：APPLIED PHYSICS LETTERS
  • 编号：SY114266
  • 卷号：97
  • 期号：22
  • 是否译文：否
  • 发表时间：2010-01-01
  • 发表时间：2010-01-01
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